本文標(biāo)題："晶粒截面分析樣品,實(shí)際試樣中相鄰晶粒分析"
發(fā)布者：yiyi ------ 分類: 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------
人瀏覽過-----時(shí)間：2015-5-4 21:5:17
晶粒截面分析樣品,實(shí)際試樣中相鄰晶粒分析
由于實(shí)際試樣中相鄰晶粒之間的取向差不同，各個(gè)相
鄰晶粒對(duì)之間的表面能差值也將不同。所以盡管從整體上講晶粒
長(zhǎng)大已被阻止，但也存在這樣的可能性，即在試樣的某些局部，個(gè)
別晶粒與其鄰晶相比表面能特別低，從而能獲得足夠大的驅(qū)動(dòng)力
以克服各種因素(如表面蝕溝、雜質(zhì)原子、第二相粒子等)的阻
力而繼續(xù)生長(zhǎng)。由于此時(shí)其他晶粒的生長(zhǎng)已受阻礙，這些個(gè)別晶粒
的長(zhǎng)大必然表現(xiàn)出異常晶粒長(zhǎng)大的特征。
樣中的正常晶粒長(zhǎng)大受表面蝕溝的阻礙而停止時(shí)，常常會(huì)發(fā)生由
于表面能差異而誘發(fā)的異常晶粒長(zhǎng)大。給定的材料中往往只有個(gè)
別晶面具有最低的表面能，例如，在面心立方金屬中具有最低表
面能而可能成為二次晶粒的是以及面平行于表面的晶粒，在鐵硅
合金中是以及面平行于表面的晶粒。
改變退火時(shí)的氣氛條件將可能改變不同取向晶粒之間表面能
的差異，從而改變異常晶粒長(zhǎng)大后的材料織構(gòu).這一原理已被用于
硅鋼片的生產(chǎn)工藝控制，以求獲得盡可能集中的戈斯織構(gòu)或者立
方織構(gòu)。
后一篇文章：金相顯微鏡檢驗(yàn)發(fā)現(xiàn)金屬越純，越容易形成多邊化 »
前一篇文章：« 電阻率測(cè)量技術(shù)的應(yīng)用-金屬再結(jié)晶加工
tags:材料學(xué),技術(shù),金相顯微鏡,上海精密儀器,
晶粒截面分析樣品,實(shí)際試樣中相鄰晶粒分析,金相顯微鏡現(xiàn)貨供應(yīng)
本頁地址：/gxnews/2486.html轉(zhuǎn)載注明
本站地址：/
http://www.xianweijing.org/