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本文標題:"合金表面檢測掃描式電子顯微鏡廠商"

發(fā)布者:yiyi ------ 分類: 行業(yè)動態(tài) ------ 人瀏覽過-----時間:2013-7-17 10:5:56

 合金表面檢測掃描式電子顯微鏡廠商

 
無論是未合金化或合金化ADI其360℃-2hr的殘留奧氏體含量都比300℃-3hr為高,
約有5%的增加量,而機化性實驗結果
 
亦可證實殘留奧氏體含量與機械性質(zhì)有直接關系,即殘留奧氏體含量愈多時,
其延韌性較高但強度、硬度較低。
 
化學腐蝕性質(zhì)方面,無論是極化、浸漬試驗,對ADI而言,可以發(fā)現(xiàn)ADI皆比DI為優(yōu),
而其中360℃-2hr之ADI耐腐蝕性質(zhì)表現(xiàn)最佳,主要亦是受殘留奧氏體含量之影響。
表面改質(zhì)方面,ADI有ENi為中介層可提升膜鍍之性質(zhì),
 
例如雙重TiAlCrN/ENi/ADI鍍膜之表面硬度明顯比單一TiAlCrN/ADI鍍膜為高(2644 vs.1831Hv),甚至比單一ENi/ADI鍍膜
高達4.5倍以上,故有ENi當中介層試片,其硬度均明顯超過無中介層試片;此外,耐磨耗性質(zhì)以CrN/ENi/ADI最優(yōu),
其次為CrN/ADI >TiAlCrN/ENi/ADI>TiAlCrN/ADI> ENi/ADI;抗蝕能力則以TiAlCrN/ENi/ADI最優(yōu),
其次為ENi/ADI>CrN/ENi/ADI >TiAlCrN/ADI>CrN/ADI。另材料于濕度8 0%、鹽份3.5%及受30kg荷重時,
進行環(huán)境應力循環(huán)試驗,即從室溫上升至70℃再變化至-30℃低溫以模擬嚴苛環(huán)境下,評估其運轉(zhuǎn)機件之韌性變化,
結果顯示DI及ADI材料隨作用時間增加,其衝擊韌性皆會隨之減少,其中Cu-DI材料均比DI來得差,
且ADI之衝擊韌性反而較DI為低。

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